Geschrieben von / Posted by Konstantin Kraft am/on 22. Jan. 08 - 11:12:53
Liebe Forumsteilnehmer,
ich werde an der Universität Ulm in letzter Zeit immer häufiger mit Quarzgeräten aus der Halbleitertechnik konfrontiert.
Wir alle kennen die Problematik mit verschmutzten Glasgeräten aus der Chemie. Da hängt die Verschmutzung ja häufig mit Faulheit und Unbedarftheit der Auftraggeber zusammen. Verschmutzungen lassen sich in der Regel doch relativ einfach und gründlich beseitigen.
Wie ist das bei Halbleiterteilen? Ich habe es hier zum einen mit Gallium Ablagerungen zu tun. Diese sind angeblich ungefährlich und schon durch emsigen Salzsäuren Einsatz gereinigt. Zurück bleibt jedoch ein wie auch immer gearteter, sehr resistenter Film (sieht aus wie irisiert!) Im Sicherheitsdatenblatt von Gallium wird darauf hingewiesen, Gallium fern von Oxidationsmitteln zu halten. Wenn ich jetzt mit einer saftigen Sauerstoffflamme auf so ein Teil los gehe, ist die Flamme doch oxidieren und löst auch die Schicht an. Mir ist dieser Gedanke nicht geheuer …
Ebenso kommen diese Ablagerungen als eine diamantartige Kohlenstoff-Verbindung daher. Diese Schicht lässt sich angeblich nicht mehr chemisch Entfernen und kann nur noch abgefackelt werden. Natürlich ein Job für den Glasbläser…
Ich würde mich sehr über ein paar Hinweise und Erfahrungsberichte freuen.
Ich vertraue doch mehr auf die erfahren Kollegen hier im Forum als auf die allgemeine Standart-Floskel der Forscher: „Das ist völlig ungefährlich“!
Danke und Gruss,
Konstantin
Re: quarzglas reparaturen Roland Zain 
28. Jan. 08 - 16:13:08
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Re: quarzglas reparaturen Andreas Haimberger 23. Jan. 08 - 21:02:10
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Re: quarzglas reparaturen N. Zielinski 
22. Jan. 08 - 14:59:15
quarzkunden und mehr.... Konstantin Kraft 24. Jan. 08 - 10:18:40
Re: quarzkunden und mehr.... H. Klose 31. Jan. 08 - 11:50:28
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